-
脉冲激光沉积(PLD)/大面积PLD/涂层带PLD系统
仪器简介:脉冲激光沉积(PLD)简介 美国PVD公司为客户提供优质的薄膜沉积设备,特别是大面积脉冲激光沉积(PLD)系统,还包括沉积元件如靶材操纵器和智能视窗等,另外可为客户订制激光分子
-
ISOLUTE® PLD+
瑞典Biotage公司zei新开发的 ISOLUTE® PLD+ 内有除磷脂填料,可以快速去除基质复杂样品中99%的蛋白和磷脂对于生化样品制备来说,使用ISOLUTE® PLD+较传统蛋白沉淀技术
-
激光脉冲沉积系统(PLD)
deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积技术参数: 腔形状 : 球面型 样品尺寸 : ~ 2inch, 单片 wafer 加热
-
脉冲激光沉积系统(PLD)
-
脉冲激光沉积系统(PLD)
仪器简介: PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法
-
Pioneer 180 MAPLE PLD System激光脉冲沉积(PLD)Neocera
-
PLD脉冲激光沉积系统-SVT
美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜,氧化物薄膜,多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统,可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验,我公司为许多科研用户独立打造了
-
脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera
-
Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
阶段。与XPS分析系统集成,晶片就地从PLD系统转移到分析系统应用领域脉冲激光沉积(PulsedLaserDeposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的
-
脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System
Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net